上海微电子在进博会展出新一代前道光刻机模型SSC800、SSB800

11月5日至10日，第九届进博会在上海举行，上海微电子装备集团（SMEE）在中国馆展出新一代前道干式扫描投影光刻机SSC800、SSB800模型，采用透明剖视设计展示整机光学光路与内部机电系统链路。

信源原题：重大突破！我国新一代光刻机模型亮相

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